2026-03-19
作者👨🏽🦱：
3月11—13日，以 “找春天” 为主题的2026中国国际服装服饰博览会（CHIC春季展）在上海国家会展中心盛大启幕。本次展会汇聚了众多业内精英，我司应邀参展，在现场精彩亮相、备受关注🧳🚣。
面对络绎不绝的到访嘉宾，现场全体同事始终以饱满热情与专业素养👩🏽🦰，为每位嘉宾细致讲解产品性能🎓、解析技术细节、解答各类疑问，并结合实际生产需求，量身定制专属解决方案。短短数日🚶，杏悦完成上百轮深度对接，达成大量合作意向，也收获了诸多宝贵的行业建议👨🎤。
本届展会，杏悦紧扣行业绿色低碳转型、功能性面料升级核心趋势🙎🏻♂️，带来环保型印染助剂系列、低温节能染色助剂、多功能面料整理剂、高牢度环保固色体系等多款核心产品，全面覆盖纺织印染前处理、染色、后整理全流程。相关方案既可助力纺织企业实现降本增效🧔🏿♂️、节能减碳，也能精准适配服装品牌对面料抗菌、防晒、吸湿排汗、亲肤舒适等多元功能需求，高度契合当下纺织服装行业发展趋势。
此次亮相，不仅是在行业顶级平台展示杏悦平台的技术实力与产品矩阵，更是与行业同仁深度交流、精准把握最新市场需求与发展方向的宝贵契机♈️。
